產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
高真空加熱裝置
所屬分類(lèi)
真空熱處理設備
產(chǎn)品描述
參數
1、真空度及漏率:
1.1、系統極限真空度≤6.7×10-5Pa,系統漏率優(yōu)于1.0×10-7Pa.L/s;
1.2、真空抽氣機組采用分子泵+干泵的抽氣機組;
1.3、真空獲得系統分為快抽和慢抽兩種抽氣方式。
2、真空罐體:
真空罐體材料選擇316L不銹鋼,罐體內部尺寸不小于直徑Φ50mm×100mm。
3、加熱爐:
3.1、加熱爐外殼溫度要低于200℃;
3.2、加熱爐內最高加熱溫度800℃,控溫精度±1℃;
3.3、加熱均溫區:φ50×50mm(真空罐體底部);
3.4、程序控溫,PID調節。
4、氣體降溫循環(huán)系統:
采用氬氣循環(huán)的方式對真空罐體的外殼管道進(jìn)行降溫,以避免高溫對罐體上蓋密封口的氟橡膠圈造成損壞。
5、電控系統:
電控系統主要有以下功能:
5.1、真空機組控制;
5.2、真空度的顯示和溫度控制;
5.3、系統的聯(lián)鎖保護功能。
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專(zhuān)用高溫真空熱處理爐
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高真空管式氮化爐
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