產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
PLD系統
所屬分類(lèi)
薄膜制備設備 （PVD）
產(chǎn)品描述
參數
一、技術(shù)指標：
1. 激光濺射沉積室，極限真空度優(yōu)于：6.6×10E-5Pa；工作真空度：40分鐘內從大氣抽到5×10-4Pa；系統漏率為：1×10-7PaL/s;
2. 激光束掃描裝置：具有兩個(gè)自由度；
3. 樣品架可加熱及連續旋轉，加熱溫度：800ºC±1ºC，旋轉速度為：0～60轉/分；樣品最大尺寸為Ф60㎜一個(gè)； 計算機控制轉速；
4. 激光靶材尺寸：Ф50×5㎜；尺寸可調；共四塊，四塊靶材可公轉換位同時(shí)靶材可自轉，自轉速度為：0～60轉/分，連續旋轉；計算機控制；
5. 真空抽氣采用600升/秒分子泵＋8升/秒機械泵；
6. 激光濺射沉積室尺寸：Ф450球型結構，箱體上開(kāi)有連接激光靶、樣品架、真空閘板閥、氣路閥等法蘭接口。
二、系統組成：
主要由激光沉積室、真空抽氣及測量系統、樣品臺及加熱旋轉系統、激光旋轉靶臺系統、窗口與法蘭組件系統、激光束掃描系統、電控系統、配氣系統、輔助系統等部分組成。
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上一個(gè)
超高真空脈沖激光濺射沉積室系統
下一個(gè)
脈沖激光沉積系統
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