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高溫真空排氣臺

所屬分類(lèi)
真空排氣臺設備
TAPQ–GW高溫真空排氣臺一、主要用途：　　系統針對覆蓋10-6Pa～0.1MPa的壓力范圍內的應用需求。實(shí)現超高真空條件下的壓力精確測量，可進(jìn)行超高真空條件下的氣固原位反應研究。二、技術(shù)指標：　　1．工作壓力范圍：10-6Pa～0.1Mpa，真空漏率≤10-9Pa?M3/S；　　2．標準容器：50ml、500ml、1000ml、5000ml的球型容器各一個(gè)；　　3．化學(xué)床溫度控制：工作溫度范圍
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產(chǎn)品描述
參數

TAPQ–GW 高溫真空排氣臺

一、主要用途：
　　系統針對覆蓋10-6Pa～0.1MPa的壓力范圍內的應用需求。實(shí)現超高真空條件下的壓力精確測量，可進(jìn)行超高真空條件下的氣固原位反應研究。
二、技術(shù)指標：
　　1．工作壓力范圍：10-6Pa～0.1Mpa，真空漏率≤10-9Pa•M3/S；
　　2．標準容器：50ml、500ml、1000ml、5000ml的球型容器各一個(gè)；
　　3．化學(xué)床溫度控制：工作溫度范圍為室溫～1100℃，溫度控制精度為±5℃；加熱速率5～50k/min，可調。
三、系統組成：
　　主要由真空抽氣系統、壓力測量系統、標準容器、加熱爐、電控及計算機控制系統等組成。

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