產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
產(chǎn)品描述
參數
技術(shù)要求和指標
1、真空腔尺寸直徑500mm×高600mm（以最終設計尺寸為準），材質(zhì)為優(yōu)質(zhì)不銹鋼。
2、設備真空系統硬件選用一線(xiàn)品牌，極限真空度≤5.0×10℃Pa，系統漏率≤1.0×107Pa·L/s，分子泵滿(mǎn)轉后真空系統45分鐘可達到5.0×10 Pa。3.3、設備采用直流電源，可鍍金屬膜，磁控靶直流射頻兼容。
4、設備滿(mǎn)足四靶共濺射鍍膜，配置3英寸標準磁控靶4個(gè)，永磁靶和強磁靶均可鍍膜。
5、設備滿(mǎn)足陶瓷或金屬或復合材料樣品的鍍膜，鍍膜方式可實(shí)現單層膜，可分別鍍多層膜，也可實(shí)現多層同時(shí)鍍膜（即合金膜）。
6、樣品臺具有加熱和旋轉功能，可放置直徑50mm的樣品鍍膜，最高的加溫溫度不低于600℃，控溫精度：±1℃，樣品臺自轉轉速0～30轉/分可控，均可實(shí)現計算機采集控制。
7、樣品臺與磁控靶高度距離不低于60mm，且可調整。
8、氣體流量控制，實(shí)現計算機采集控制。
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