產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
微波等離子體(BEH2,BED2制備系統)
所屬分類(lèi)
化學(xué)氣相沉積設備 (CVD)
產(chǎn)品描述
參數
一、主要用途:
通過(guò)微波產(chǎn)生等離子,制備氯、氫的鈹化物。
二、技術(shù)指標:
1. 極限真空:6.7×10-5Pa,工作真空:6.7×10-4Pa(2h);
2. 樣品臺:有效尺寸Φ75mm;升降距離50mm;最高可加熱至300℃,控溫精度±1℃,溫度可控可設可調;
3. 坩堝蒸發(fā)溫度:最高1400℃;控溫精度±8℃;
4. 樣品升降距離:±50mm;
5. 兩路質(zhì)量流量計控制,流量范圍:一路0~100sccm;一路0~20sccm;
6. 微波源:微波頻率2.45GHz,輸出功率:0~500W,脈沖連續可調。
三、系統組成:
主要由真空機組、真空主室、真空副室、樣品臺(可升降、加熱、水冷)、微波源、氣路系統、噴射小孔及擋板、加熱控溫系統、Be蒸氣加熱系統、電控系統、臺架等組成。
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射頻感應爐
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金屬有機化學(xué)氣相沉積系統
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