開(kāi)放式金屬有機物化學(xué)氣相沉積系統
一 、技術(shù)指標:
該設備主要采用在真空下，對樣品加熱作為CVD反應的環(huán)境和條件，通入反應氣體，在板狀樣品表面沉積薄膜。
主要由真空抽氣及測量系統、加熱及控溫系統、原料供應系統、樣品臺系統、氣路系統、輔助系統、電控系統等組成。
在抽氣過(guò)程中，如系統突然暴露大氣，應能處于保護狀態(tài)，避免部件的損壞。停電停水、以及系統不能維持真空狀態(tài)，設備帶有保護裝置，整個(gè)系統連鎖保護。
1、真空抽氣及測量系統：
系統要求工作室真空度在5 Pa以下，為此我們采用的是成都南光生產(chǎn)的8L/s的直連式機械泵作為主抽泵，配有前級抽氣閥門(mén)、三通管道、波紋管管道、真空規計、機械泵上方的電磁壓差閥（防止返油）等。
同時(shí)機械泵與真空室連接的DN35閘板閥為手動(dòng)，可進(jìn)行排氣流導大小調節控制，實(shí)現反應室壓力控制。閘板閥上有刻度，便于控制閥門(mén)開(kāi)啟程度。
在反應室與泵抽系統之間，先后安裝有粉塵收集器和液氮冷阱，保護閥及機械泵不受污染。
壓力測量：壓力傳感器選用國內杭州潤辰科技有限公司的產(chǎn)品：壓力范圍：1Pa～0.1MPa；型號為：PRC905，供電24VDC，輸出：4-20mA，精度：0.5%，接口M20×1.5；通過(guò)調節抽氣閥門(mén)的流導實(shí)現節流，控制反應室的壓力。
低真空測量采用成都睿寶電阻規測量，安裝在真空室上。
2、反應室系統：
2.1尺寸結構：
采用臥式不銹鋼圓筒形前開(kāi)門(mén)結構，壁厚為5mm，內徑尺寸為：ø250×300mm，一端為封頭焊接結構，一端為前開(kāi)門(mén)結構，方便更換樣品。
在真空室的斜上方安裝氣路噴頭，正上方留出相同尺寸的法蘭，在真空室的中心下部，安裝可加熱樣品臺。
在真空室前開(kāi)門(mén)上開(kāi)有Dg50觀(guān)察窗，用于觀(guān)察真空室內部。
在真空室上，開(kāi)有KF16法蘭接口，用于氣路備用進(jìn)氣口；
在真空室上開(kāi)有Dg100法蘭接口一個(gè)，用于備用；
真空室開(kāi)有一個(gè)Dg10法蘭接口，用于連接壓力傳感器（接口為M20×1.5）；
在真空室圓周45°斜上方對準樣品位置，對稱(chēng)開(kāi)有兩個(gè)通導為ø100mm的石英觀(guān)察窗，用于激光導入；
在真空室下方適當位置，開(kāi)有KF40法蘭接口，用于連接機械泵抽氣。
3、樣品臺系統：
樣品臺（Φ120mm）每次只鍍一個(gè)平面樣品（直徑Φ100 mm），可對樣品加熱，電動(dòng)旋轉。
樣品臺距噴頭距離在30mm～60mm可調。
3.1安裝：樣品臺安裝真空室的氣體噴口的正下方，樣品被鍍面向上。
3.2要求：樣品可加熱1000℃；
3.3實(shí)施方案：
方案：采用輻射電阻加熱方式，實(shí)現樣品的加熱，加熱溫度為室溫到1000℃，控溫精度±1℃。
為了保證樣品的溫度和均勻性，樣品加熱爐通過(guò)鐵鉻鋁加熱絲進(jìn)行加熱。
樣品臺元件以及屏蔽要防氧化材料。
高精度加熱測溫控溫電源一臺，控溫表一臺，陶封引線(xiàn)電極及測溫熱電偶各一套,加熱采用程序控溫，PID調節。
擋板：噴頭下方、樣品加熱爐上方帶有手動(dòng)擋板一套，擋板尺寸要大于加熱爐尺寸。
采用電機帶動(dòng)，樣品臺旋轉方式，轉速0～30（轉/分）可控。
……
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