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超高真空脈沖激光濺射沉積室系統(tǒng)
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超高真空脈沖激光濺射沉積室系統(tǒng)

一、主要技術(shù)指標(biāo)：1.采用雙室結(jié)構(gòu)（鍍膜室+樣品室），不銹鋼材料，磁力傳遞進(jìn)行交接；2.激光濺射沉積室，極限真空度優(yōu)于：8.0×10-8Pa；工作真空度：40分鐘內(nèi)從大氣抽到5×10-4Pa；系統(tǒng)漏率為：1×10-7PaL/s；樣品室極限真空度優(yōu)于：8.0×10-4Pa；工作真空度：40分鐘內(nèi)從大氣抽到5×10-3Pa；系統(tǒng)漏率為：1×10-7PaL/s;?????????????3.樣品架可加熱
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產(chǎn)品描述
參數(shù)
一、主要技術(shù)指標(biāo)：
1. 采用雙室結(jié)構(gòu)（鍍膜室+樣品室），不銹鋼材料，磁力傳遞進(jìn)行交接；
2. 激光濺射沉積室，極限真空度優(yōu)于：8.0×10-8Pa；工作真空度：40分鐘內(nèi)從大氣抽到5×10-4Pa；系統(tǒng)漏率為：1×10-7PaL/s；
樣品室極限真空度優(yōu)于：8.0×10-4Pa；工作真空度：40分鐘內(nèi)從大氣抽到5×10-3Pa；系統(tǒng)漏率為：1×10-7PaL/s;       
3. 樣品架可加熱及連續(xù)旋轉(zhuǎn)，加熱溫度：800ºC±1ºC（2個(gè)加熱器，其中1個(gè)備用加熱器），旋轉(zhuǎn)速度為：0～30轉(zhuǎn)/分； 
   樣品最大尺寸為Ф30㎜一個(gè)（可放置4個(gè)5mm*5mm的樣品）；計(jì)算機(jī)控制轉(zhuǎn)速；樣品帶有電動(dòng)擋板裝置，計(jì)算機(jī)控制；                   
4. 靶材尺寸：Ф20×3㎜；尺寸可調(diào)；共四塊，四塊靶材可公轉(zhuǎn)換位同時(shí)靶材可自轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度為：0～30轉(zhuǎn)/分，連續(xù)旋轉(zhuǎn)；計(jì)算機(jī)控制；                                    
5. 樣品與靶之間的距離為25mm～100mm；              
6. 樣品與靶之間的夾角為30°；
7. 激光入射窗口2個(gè)：Ф50㎜
二、設(shè)備組成：
    主要由激光沉積室、樣品室、真空抽氣及測量系統(tǒng)、樣品臺及加熱旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、激光旋轉(zhuǎn)靶臺系統(tǒng)、窗口與法蘭組件系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)等部分組成。
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